凯泽金属的钛管靶主要用于什么工艺？有什么结构优势？

我们的钛管靶是专为磁控溅射（尤其是旋转溅射） 设计的高纯度空心圆柱靶材。其核心结构优势在于可实现360°旋转溅射，不仅让膜厚均匀性控制在±3%以内，更将材料利用率大幅提升至70%以上，远优于传统平面靶，特别适合大面积连续镀膜。