靶材系列

新能源用钛靶材是用于薄膜沉积的高纯度钛或钛合金材料（纯度≥99.99%‌），遵循半导体级制造... 【详情】

光学级钛靶材是高端镀膜的核心材料，其性能直接影响光学系统的能量损耗（每0.1%杂质增加约... 【详情】

钛管靶凭借其高材料利用率和均匀镀膜特性，在显示面板（如G10.5代线需Φ450×2500mm靶管）和... 【详情】

钛靶材因其优异的综合性能（性价比、成膜质量、工艺适应性），占据真空镀膜靶材市场约35%的... 【详情】

钛靶管凭借高材料利用率与镀膜均匀性，在显示面板（如8K OLED）和光伏领域占据主导地位。相... 【详情】

圆柱钛靶材凭借其高致密性与工艺适应性，在半导体（如5 nm节点TiN阻挡层）和超精密光学领域... 【详情】

1、高纯钛靶装饰用纯钛靶是一种用于物理气相沉积（PVD）工艺的高纯度钛材料，通常以块状或板... 【详情】

平面显示用钛靶是高端显示面板制造的核心材料，其超纯、高密度和微观均匀性要求远高于装... 【详情】

1、定义纯钛靶是以钛金属为主要成分，纯度通常在 99.95%（3N5级）以上 的溅射靶材，用于物理气... 【详情】

镀膜用钛管靶凭借其高利用率、优异膜厚均匀性和旋转溅射适应性，成为大面积连续镀膜的核... 【详情】

工业涂层用钛圆柱靶凭借其高纯度、优异热管理能力和适配多种复合涂层的灵活性，成为机械... 【详情】

1、定义TA2纯钛靶是以中国国家标准 GB/T 3620.1 中的 TA2（工业纯钛） 为基础材料，通过特殊... 【详情】

1、定义TA1纯钛靶管是以中国国家标准 GB/T 3620.1 中的 TA1（工业纯钛） 为基础材料，通过二... 【详情】

钛靶板（平面靶）凭借其大面积成膜能力与高纯度特性，成为半导体、光学及工业涂层领域的核心... 【详情】

TA1钛圆柱靶通过提纯工艺在保留工业纯钛成本优势的同时，显著提升了纯度与溅射性能，成为... 【详情】

表面涂层与防护用铬靶材是以高纯度金属铬或铬合金（如铁铬合金）为材质‌，通过真空镀膜技术... 【详情】

名称：铬多弧靶牌号：Gr用途：铬靶用于半导体分离器件、平面显示器、储存器电极薄膜、溅射镀... 【详情】

产品名称：铬旋转靶铬管靶产地：宝鸡铭含量 : 99.5%杂质含量： 0.5%重量 ：不等( kg/ 块）用途：铬... 【详情】

产品名称：铬靶材、铬靶块、铬圆柱靶产地：宝鸡铭含量 : 99.5%杂质含量： 0.5%重量 ：不等( kg... 【详情】

产品名称：铬靶材、铬靶块、铬圆靶产地：宝鸡铭含量 : 99.5%杂质含量： 0.5%重量 ：不等( KG/... 【详情】

产品名称：铬靶材、铬靶块、铬圆靶产地：宝鸡铭含量 : 99.5%杂质含量： 0.5%重量 ：不等( KG/... 【详情】

产品名称：铬靶材、铬靶块、铬圆靶产地：宝鸡铭含量 : 99.5%杂质含量： 0.5%重量 ：不等( KG/... 【详情】

产品名称：高纯铬靶,铬靶材,铬靶块产地：宝鸡铭含量 : 99.5%杂质含量： 0.5%重量 ：不等( KG/... 【详情】

牌号：铬靶 尺寸：100*50 100*40 95*45 95*40 80*45 672*127*12 70*7*1135等。铬靶是用先... 【详情】

产品名称：铬靶材、铬靶块、铬圆柱靶产地：宝鸡铭含量 : 99.5%杂质含量： 0.5%重量 ：不等( KG... 【详情】

产品名称：铬靶材、铬靶块、铬圆靶产地：宝鸡铭含量 : 99.5%杂质含量： 0.5%重量 ：不等( KG/... 【详情】

产品名称：高纯铬靶,铬靶材,铬靶块产地：宝鸡铭含量 : 99.5%杂质含量： 0.5%重量 ：不等( KG/... 【详情】

产品名称：铬平面靶产地：宝鸡铭含量 : 99.5%杂质含量： 0.5%重量 ：不等( KG/块）用途：铬靶用于... 【详情】

产品名称：铬旋转靶产地：宝鸡铭含量 : 99.5%杂质含量： 0.5%重量 ：不等( KG/块）用途：铬靶用于... 【详情】

产品名称：铬管靶产地：宝鸡铭含量 : 99.5%杂质含量： 0.5%重量 ：不等( KG/ 块）用途：铬靶用于半... 【详情】

集成电路晶体管制造用锆靶是以高纯度金属锆（纯度≥99.9%）或锆合金（如Zr-Hf、Zr-Nb合金）为... 【详情】

产品名称： 锆圆靶 、锆溅射圆靶标准： ASTM B551，GB/T21183牌号： R60702，R60704，R60705，Zr1纯... 【详情】

产品名称： 锆圆靶 、锆溅射圆靶标准： ASTM B551，GB/T21183牌号： R60702，R60704，R60705，Zr1纯... 【详情】

产品名称：锆靶材、锆管靶牌号：R60702、R60704、R60705（Zr702、Zr704、Zr705）生产工艺：热轧+... 【详情】

产品名称：锆靶、锆靶块牌号：702、705密度：6.49 g/cm3成型：真空熔炼物流包装：快递，真空木箱包... 【详情】

产品名称：锆靶材、锆管靶牌号：R60702、R60704、R60705（Zr702、Zr704、Zr705）生产工艺：热轧+... 【详情】

产品名称：锆靶牌号：702、705密度：6.49 g/cm3成型：真空熔炼物流包装：快递，真空木箱包装具体尺... 【详情】

产品名称：锆靶管、锆旋转靶厂家：凯泽金属材 质：Zr纯 度：99.98%晶粒度：<100um工艺：热轧，冷轧，酸... 【详情】

产品名称： 锆圆靶 、锆溅射圆靶标准： ASTM B551，GB/T21183牌号： R60702，R60704，R60705，Zr1纯... 【详情】

产品名称：锆靶牌号：702、705密度：6.49 g/cm3成型：真空熔炼物流包装：快递，真空木箱包装具体尺... 【详情】

产品名称：锆靶材 、锆平面靶纯度：99.6%类型：平面靶材标准：国标、美标、德标均可生产状态：冷... 【详情】

产品名称：锆靶管、锆旋转靶厂家：凯泽金属材 质：Zr纯 度：99.98%晶粒度：<100um工艺：热轧，冷轧，酸... 【详情】

产品名称：锆靶材、锆管靶牌号：R60702、R60704、R60705（Zr702、Zr704、Zr705）生产工艺：热轧+... 【详情】

产品名称：锆靶、锆板靶牌号：R60702、R60704、R60705（Zr702、Zr704、Zr705）生产工艺：热轧+冷... 【详情】

产品名称：纯锆靶材、锆圆靶、锆板靶、锆管靶牌号：R60702、R60704、R60705（Zr702、Zr704、... 【详情】

半导体制造用镍靶材是以高纯度镍（≥99.95%）或镍基合金（如镍钨、镍钴）为材质‌，通过物理气相... 【详情】

产品名称：镍靶材、镍旋转靶，镍平面靶，镍多弧靶牌号：N6, N4用途：用于半导体分离器件、平面显... 【详情】

产品名称：镍靶材、镍旋转靶，镍平面靶，镍多弧靶牌号：N6, N4用途：用于半导体分离器件、平面显... 【详情】

产品名称：镍靶产品材质：Ni产品规格：685.7 L x 127 W x 6 H mm （按客户要求定制) (可提供背... 【详情】

产品名称：镍靶（镍多弧靶）产品材质：Ni产品规格：685.7 L x 127 W x 6 H mm （按客户要求定制) (... 【详情】

产品名称：镍靶块牌号：N6, N4用途：镍靶块主要用于半导体分离器件、平面显示器、储存器电极... 【详情】

产品名称：镍靶产品材质：Ni产品规格：685.7 L x 127 W x 6 H mm （按客户要求定制) (可提供背... 【详情】

产品名称名称：镍靶材、镍旋转靶，镍靶管牌号：N6, N4用途：用于半导体分离器件、平面显示器、... 【详情】

产品名称：镍靶材、镍旋转靶，镍平面靶，镍多弧靶牌号：N6, N4用途：用于半导体分离器件、平面显... 【详情】

名称：镍靶、镍多弧靶、镍平面靶板、镍旋转靶管牌号： N6、 N4用途：用于半导体分离器件、平... 【详情】

产品名称：镍靶产品材质：Ni产品规格：685.7 L x 127 W x 6 H mm （按客户要求定制) (可提供背... 【详情】

产品名称：镍靶材、镍旋转靶，镍平面靶，镍多弧靶牌号：N6, N4用途：用于半导体分离器件、平面显... 【详情】

产品名称：镍铜靶材，镍铜多弧靶，镍铜旋转靶，镍铜平面靶牌号：NiCu用途：用于半导体分离器件、平... 【详情】

产品名称名称：镍靶材、镍旋转靶，镍靶管牌号：N6, N4用途：用于半导体分离器件、平面显示器、... 【详情】

名称：镍靶、镍多弧靶、镍平面靶板、镍旋转靶管牌号： N6、 N4用途：用于半导体分离器件、平... 【详情】

装饰与功能镀膜用钛铝靶是以铝钛合金（原子比50-70:30-50）为材质‌、纯度≥99.8%‌的溅射... 【详情】

99.8%钛铝靶特性钛铝靶具有纯度高，粒度细，易烧结，成型性好的特点。纯度：99.8%Φ160*12 Φ... 【详情】

凯泽金属铝圆柱靶的供货规格及参数如下：1、表面车光、倒角。表面清洁光滑无起皮，气孔，裂... 【详情】

产品名称：高纯铝靶材高纯铝靶材是用于真空镀膜行业溅射靶材中的一种，是高纯铝经过系列加... 【详情】

产品名称：高纯铝靶材高纯铝靶材是用于真空镀膜行业溅射靶材中的一种，是高纯铝经过系列加... 【详情】

产品名称：高纯铝靶材高纯铝靶材是用于真空镀膜行业溅射靶材中的一种，是高纯铝经过系列加... 【详情】

产品名称：高纯铝靶管、钛铝靶一、产品规格参数纯度：99.9% 99.99% 99.999%粒度：LD70× OD5... 【详情】

产品名称：高纯铝靶材高纯铝靶材是用于真空镀膜行业溅射靶材中的一种，是高纯铝经过系列加... 【详情】

产品名称：高纯铝靶材高纯铝靶材是用于真空镀膜行业溅射靶材中的一种，是高纯铝经过系列加... 【详情】

99.8%钛铝靶特性钛铝靶具有纯度高，粒度细，易烧结，成型性好的特点。纯度：99.8%Φ160*12 Φ... 【详情】

凯泽金属铝圆柱靶的供货规格及参数如下：1、表面车光、倒角。表面清洁光滑无起皮，气孔，裂... 【详情】

产品名称：高纯铝靶材高纯铝靶材是用于真空镀膜行业溅射靶材中的一种，是高纯铝经过系列加... 【详情】

产品名称：高纯铝靶管、钛铝靶一、产品规格参数纯度：99.9% 99.99% 99.999%粒度：LD70× OD5... 【详情】

99.8%钛铝靶特性钛铝靶具有纯度高，粒度细，易烧结，成型性好的特点。纯度：99.8%Φ160*12 Φ... 【详情】

产品名称：钛铝靶材、钛铝多弧靶、钛铝合金靶牌号：TiLv80:20 ， 70:30 ， 30：70 ， 50:50用途：用... 【详情】

电路板与芯片封装用铜靶是以高纯度铜（≥99.99%）为材质‌，具备高导电性（低电阻）和优异热导率... 【详情】

产品名称：铜靶材、铜多弧靶, 铜平面靶，铜旋转靶牌号：Cu用途：用于半导体分离器件、平面显示... 【详情】

名称：铜靶材、铜多弧靶, 铜平面靶，铜旋转靶牌号：Cu用途：用于半导体分离器件、平面显示器、... 【详情】

工业防护耐磨镀层用铁靶是以高纯度铁金属为材质‌，通过溅射工艺在基材表面形成高硬度、... 【详情】

一、光伏新能源用不锈钢靶材的定义与核心特性分类详细描述定义以不锈钢（Fe-Cr-Ni系合金... 【详情】