1、名称：铌靶材、铌多弧靶, 铌平面靶，铌旋转靶2、牌号：Ni3、用途：用于半导体分离器件、平面显示器、储存器电极薄膜、溅射镀膜、工件表面涂层，玻璃镀膜工业等。元素符号Nb原子序... 【详情】

牌号：R60702，R60704，R60705，Zr1标准：ASTM B551，GB/T21183-2007规格：厚度0.1最小，宽度1200最大，长度3000最大工艺：热轧，冷轧，酸洗，剪切而成。工期：定制10天内交货包装方式：用垫有塑料隔板的... 【详情】