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稀有金属


铌靶

铌靶

1、名称:铌靶材、铌多弧靶, 铌平面靶,铌旋转靶2、牌号:Ni3、用途:用于半导体分离器件、平面显示器、储存器电极薄膜、溅射镀膜、工件表面涂层,玻璃镀膜工业等。元素符号Nb原子序... 【详情】
锆坩埚

锆坩埚

牌号:R60702,R60704,R60705,Zr1标准:ASTM B551,GB/T21183-2007规格:厚度0.1最小,宽度1200最大,长度3000最大工艺:热轧,冷轧,酸洗,剪切而成。工期:定制10天内交货包装方式:用垫有塑料隔板的... 【详情】
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