20世纪90年代以来靶材已蓬勃发展成为一个有经验化产业，中国及亚太地区靶材的需求占有世界70%以上的市场份额。大量不同的沉积技术用来沉积生长各种薄膜，而靶材是制作薄膜的关...

高纯度钛溅射靶材有各种形式（钛圆靶，钛板靶，钛柱靶，钛管靶，钛靶材定制-钛靶材制作），纯度分别（99.2％-99.7％，99.97％-99.98％，> 99.99％，99.995％）。我们专门生产具有最高密度和最小平均晶粒尺寸的高...

产品名称：钛合金锻件 TC4钛锻件 钛合金环 钛饼 钛加工件 锻件类型：钛块,钛环,钛饼,钛异形件锻造材质：国标TA1 TA2 TA9 TA10 TC4 TC18 TC6 ;美标GR1 GR2 GR5 GR12生产标准：国标...

名称：TA1钛块、钛光板、TC4钛合金块、钛锻件、钛合金锻件材质：TA0、TA1、TA2、TA3、TA9、TC4、GR1、GR2等。规格：厚度*宽度*长度 （4.1~60.0）*（400~3000）*（1000~4000） 热轧（0.3~4.0）*（40...

钛丝产品的牌号、状态和规格应符合表1的规定。表1牌号状态直径 mmTA1、TA1ELI、 TA2、TA2ELI、TA3、TA3ELI、 TA4、TA7、TA9、 TA10、TC1、TC3退火状态（M）加工状态（Y或R）0.1-7.0...

名称：钛铝靶、钛铝靶材、钛铝平面靶、高纯钛铝靶牌号：TiAl规格及包装：1.5µm 2.6µm 5µm -400目 300目 或根据客户要求生产。钛铝靶特性：产品具有纯度高，粒度细，易烧结，成型性好...

名称：镍靶、镍多弧靶、镍平面靶板、镍旋转靶管牌号：N6、N4用途：用于半导体分离器件、平面显示器、储存器电极薄膜、溅射镀膜、工件表面涂层，玻璃镀膜工业等。...

产品名称：702锆靶、705高纯锆靶、锆块、锆多弧靶 分类：形状可分为长靶，方靶，圆靶，异型靶成份可分为金属靶材、合金靶材、陶瓷化合物靶材应用领域分为微电子靶材、磁记录靶材、光...

名称：铬靶材、铬多弧靶、铬平面靶、铬旋转靶、铬块牌号：Gr用途：用于半导体分离器件、平面显示器、储存器电极薄膜、溅射镀膜、工件表面涂层，玻璃镀膜工业等。...

产品名称：钛靶块、TA1钛圆靶、高纯度溅射钛合金靶材主要用途：钛溅射靶应用于装饰和功能 镀膜工业、平面显示工业、光数据存储工业 （光盘工业）光通讯工业、玻璃镀膜（建筑 玻璃和汽...

钛法兰又叫钛法兰盘或突缘。使管子与管子相互连接的零件，连接于管端。钛法兰上有孔眼，可穿螺栓，使两钛法兰紧连。钛法兰间用衬垫密封。钛法兰管件(flanged pipe fittings)指带...

1、规格、牌号产品名称规格（mm）状态牌 号执行标准钛及钛合金加工件外径(100～800mm) 内径(40～100mm)Χ高度 按图纸/客户要求加工热锻、机械加工TA1、TA2、TA7、TA9、TA1...

钛丝产品的牌号、状态和规格应符合表1的规定。表1牌号状态直径 mmTA1、TA1ELI、 TA2、TA2ELI、TA3、TA3ELI、 TA4、TA7、TA9、 TA10、TC1、TC3退火状态（M）加工状态（Y或R）0.1-7.0...

产品名称：N6镍管靶 镍旋转靶材产 地：陕西宝鸡材 质：Ni纯 度：99.99%晶 粒 度：<100um规格：可以按照用户需要定制执行标准：国标，美标应用领域：用于半导体分离器件、平面显示器、储存器电...

产品名称：真空镀膜钛锆靶、钛锆合金靶材材 质：Ti、Zr晶粒度：<100um产品规格：根据用户需要进行定制，来样加工，来图加工。工艺：热轧，冷轧，碱洗，剪切而成。应用领域：航天航空、原子能反应...

产品名称：99.99%高纯高密铬靶 产 地：陕西宝鸡材 质：Cr纯 度：99.99%晶 粒 度：<100um应用领域：广泛应用于电子半导体工业镀膜、平面显示镀膜、光数据、光存储镀膜、光伏太阳能表面镀...

产品名称：TA1钛靶、TA2钛靶、钛靶材材 质：Ti纯 度：99.9%-99.99%牌号：TA1、TA2晶 粒 度：<100um规格：可以按照用户需要定制应用领域：适用电子、五金、钟表、眼镜、首饰、刀具、模具、...

产品名称高纯度靶材尺寸1.圆形靶：Ø30--2000mm，厚度3.0mm--300mm； 2.板托：长度：200-500mm宽度：100-230mm厚度：3--40mm 3.靶材：直径：30-200mm厚度：5-20mm长度：500-2000mm 4.可...

执行标准：国标-HG20592 、美标-ANSI B16.5 、日标JISB2220、德标-DIN2627-2628、英标BS、俄标.材质牌号：TA1 TA2 TA9 TA10 TC4 (GR1,GR2,GR5,Gr7，GR9) 生产工艺：锻造用途：钛法兰...

1、牌号、标准、状态、规格、工艺牌号：TA1、TA2、TC4、TC11、TA15、TA10、TA18、TC21等执行标准：AMS4928、GB/T2965、ASTM-B348、ASTM-B381、GB/T16598形状：钛环、异颈环(也可...

TC4钛方块,钛合金锻件执行标准：GB/T16598、ASTM B381、AMS4928等主要牌号： TC4 (GR5)规格：(50~1500) x (50~1200) x L <4000mm质量管理：ISO9001:2015,AS9100C宇航标准质量管理体...

执行标准：国标-HG20592 、美标-ANSI B16.5 、日标JISB2220、德标-DIN2627-2628、英标BS、俄标.材质牌号：TA1 TA2 TA9 TA10 TC4 (GR1,GR2,GR5,Gr7，GR9) 生产工艺：锻造用途：钛法兰...

名称：铬靶材、铬多弧靶、铬平面靶、铬旋转靶、铬块牌号：Gr用途：用于半导体分离器件、平面显示器、储存器电极薄膜、溅射镀膜、工件表面涂层，玻璃镀膜工业等。...

产品名称：99.99%高纯高密铬靶 产 地：陕西宝鸡材 质：Cr纯 度：99.99%晶 粒 度：<100um应用领域：广泛应用于电子半导体工业镀膜、平面显示镀膜、光数据、光存储镀膜、光伏太阳能表面镀...

名称：镍靶、镍多弧靶、镍平面靶板、镍旋转靶管牌号：N6、N4用途：用于半导体分离器件、平面显示器、储存器电极薄膜、溅射镀膜、工件表面涂层，玻璃镀膜工业等。...

产品名称：TA1(GR1)钛饼,钛靶块主要用途：钛溅射靶应用于装饰和功能 镀膜工业、平面显示工业、光数据存储工业 （光盘工业）光通讯工业、玻璃镀膜（建筑 玻璃和汽车玻璃）工业等行业。执...

名称：钛方块、钛块执行标准：GB/T-16598、ASTM B381、AMS4928 GB/T-25137材质牌号：TA1 TA2 TA9 TA10 TC4 (GR1,GR2,GR5,Gr7，GR9) 生产工艺：锻造尺寸规格：50-1500* 50-2000* L用途...

产品名称：溅射真空镀膜高纯钛靶、钛靶材产地：陕西宝鸡材 质：Ti纯 度：99.95%密 度：≥4.51g/cm3表 面：车光、倒角。表面清洁光滑，无起皮，气孔，裂纹等缺陷。规格：可根据用户需要定制产品...

产品名称：TA1钛靶、TA2钛靶、钛靶材材 质：Ti纯 度：99.9%-99.99%牌号：TA1、TA2晶 粒 度：<100um规格：可以按照用户需要定制应用领域：适用电子、五金、钟表、眼镜、首饰、刀具、模具、...

材质：TA1　TA2　TC4　Gr1 Gr2　Gr5 TA10 TA15规格：φ0.2---φ7.0 分类：盘丝、直丝/光亮面、酸洗面执行标准：GB／T 3620、GB／T 3623、ASTM B863 钛及钛合金根据性能的不同，可制备出不...

锆靶材主要应用于电子及信息产业，如集成电路、信息存储、液晶显示屏、激光存储器、电子控制器件等;亦可应用于玻璃镀膜领域;还可以应用于耐磨材料、高温耐蚀、高档装饰用品等...

溅射靶材主要应用于电子及信息产业，如集成电路、信息存储、液晶显示屏、激光存储器、电子控制器件等。亦可应用于玻璃镀膜领域，还可以应用于耐磨材料、高温耐蚀、高档装饰用品...

名称：钛铝靶、钛铝靶材、钛铝平面靶、高纯钛铝靶牌号：TiAl规格及包装：1.5µm 2.6µm 5µm -400目 300目 或根据客户要求生产。钛铝靶特性：产品具有纯度高，粒度细，易烧结，成型性好...

品名：锆靶 、锆靶管、锆靶板、锆旋转靶牌号：HZr-01 产地：宝鸡锆含量≥：99.6（%） 杂质含量：0.3（%） 重量：不等（kg/块）规格：100*40 100*45 用途：用于半导体分离器件、平面显示器、储存器电极薄...

名称：铬靶材、铬多弧靶、铬平面靶、铬旋转靶、铬块牌号：Gr用途：用于半导体分离器件、平面显示器、储存器电极薄膜、溅射镀膜、工件表面涂层，玻璃镀膜工业等。...

1、规格、牌号产品名称规格（mm）状态牌 号执行标准钛及钛合金加工件外径(100～800mm) 内径(40～100mm)Χ高度 按图纸/客户要求加工热锻、机械加工TA1、TA2、TA7、TA9、TA1...