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功能性薄膜用钛平面靶

材质:TA1(Grade1)

执行标准: GB/T 3620.1、GB/T 3621、SJ/T 11609-2016、JB/T 8554、ASTM B348、ISO 1463

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发布日期: 2022-09-15 11:15:58

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详细描述 / Detailed description

1、定义

TA1钛平面靶是以中国国家标准 GB/T 3620.1 中的 TA1(工业纯钛) 为原材料,通过塑性加工制成的平板状溅射靶材。其纯度通常为 99.5%(Fe≤0.20%、O≤0.25%、C≤0.10%),适用于磁控溅射工艺,主要用于工业防腐、装饰镀层及功能性薄膜的制备。其平板结构适配大面积均匀镀膜需求,常见形态为矩形或圆形薄板。

2、性能特点

基础性能:

纯度:TA1钛纯度 99.5%,杂质以Fe、O为主,适合对薄膜性能要求适中的场景。

机械性能:抗拉强度≥345 MPa,延伸率≥20%,硬度HV 120-180。

镀膜特性:

均匀性:靶面晶粒尺寸≤100 μm,膜厚均匀性±8%(需优化磁场设计)。

耐腐蚀性:在3.5% NaCl溶液中腐蚀速率≤0.01 mm/年,适合一般工业环境。

成本优势:

原材料成本低(¥400-600/kg),适配中低功率溅射(≤10 W/cm²)。

3、材质与制造工艺

材质:

基材:TA1工业纯钛(GB/T 3620.1),未进行二次提纯,保留原始杂质水平。

复合结构:部分靶材背部复合铜/钼背板(导热系数≥150 W/m·K)。

制造工艺:

原料熔炼:

真空自耗电弧熔炼(VAR):去除挥发性杂质(如Cl、S)。

塑性加工:

热轧(900-1000°C)→冷轧→退火(消除内应力)。

精密加工:

线切割成型→表面粗抛光(Ra≤1.2 μm)→酸洗(HF:HNO ₃=1:3)去除氧化层。

复合焊接:

钛-铜背板采用 真空钎焊(温度700-800°C,压力20-30 MPa)。

4、执行标准

标准类型具体标准
国内标准GB/T 3620.1(TA1工业纯钛)、GB/T 3621(钛及钛合金板材)
行业规范SJ/T 11609-2016(溅射靶材通用技术条件)、JB/T 8554(工业涂层性能要求)
国际参考ASTM B348(钛及钛合金板材)、ISO 1463(膜厚测量标准)

5、应用领域

工业防腐涂层:

化工设备反应釜内壁的 纯钛镀层(耐酸碱腐蚀,替代不锈钢)。

海洋平台管道的 CrTiN复合涂层(耐盐雾≥500小时)。

装饰镀膜:

卫浴五金的 氮化钛(TiN)仿金镀层(颜色稳定性优于电镀)。

家具配件的 TiC黑色涂层(防指纹、耐磨损)。

功能性薄膜:

包装材料的 氧气阻隔层(氧气透过率≤10 cm³/m²·day)。

汽车灯具反射膜的 钛基涂层(反射率≥80%)。

6、与其他钛平面靶的异同对比

特性TA1钛平面靶TA2钛平面靶高纯钛平面靶(4N级)钛合金平面靶(Ti6Al4V)
纯度99.5%(Fe≤0.20%)99.5%(Fe≤0.30%)99.99%(Fe≤0.005%)90% Ti + 6% Al + 4% V
膜层均匀性±8%(需优化磁场)±10%(边缘效应显著)±5%(高纯度+精细晶粒)±12%(合金偏析影响)
耐温性≤400°C(氧化前)≤350°C≤800°C≤300°C(Al易氧化)
成本低(¥400-600/kg)低(¥350-550/kg)高(¥2000-3500/kg)中高(¥800-1200/kg)
典型应用防腐/装饰镀层、一般工业镀膜基础工业防护半导体/光学镀膜轻型耐磨部件

7、选购方法与注意事项

选购方法

杂质检测:

要求供应商提供 OES(原子发射光谱)报告,确认Fe≤0.20%、O≤0.25%。

若用于氮化钛镀层,需额外检测C含量(≤0.10%)。

几何精度验证:

靶材厚度公差 ±0.2 mm,平面度≤0.1 mm/m(激光干涉仪检测)。

供应商评估:

选择具备稳定轧制与焊接技术的厂商,优先通过 ISO 9001 认证的企业。

注意事项

储存与预处理:

储存于干燥环境(湿度<50% RH),真空封装避免氧化。

使用前用 丙酮+超声波清洗 去除油污,禁止裸手接触靶面。

工艺优化:

TiN涂层:氮气占比 30-50%,基片温度 150-250°C,溅射功率≤8 W/cm²。

纯钛镀层:氩气纯度≥99.99%,溅射气压 0.5-0.8 Pa(减少氧掺杂)。

维护与报废:

定期检查靶材损耗(剩余厚度<**15%**时更换),避免镀膜不均。

报废靶材可回收熔炼为低端钛材,但不可用于高纯度场景。

TA1钛平面靶凭借其低成本、易加工及适中的性能,成为工业防腐与装饰镀层的经济型选择。其纯度虽不及高纯钛靶,但通过工艺优化(如磁场设计、溅射参数调整)可满足一般工业需求。选购时需重点关注杂质含量与几何精度,应用中需控制氧污染并定期维护。对于精密半导体或光学镀膜,建议选用高纯钛靶;而在防腐、装饰及包装阻隔等场景,TA1钛平面靶能实现性价比最优。

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