1、定义
TA1钛平面靶是以中国国家标准 GB/T 3620.1 中的 TA1(工业纯钛) 为原材料,通过塑性加工制成的平板状溅射靶材。其纯度通常为 99.5%(Fe≤0.20%、O≤0.25%、C≤0.10%),适用于磁控溅射工艺,主要用于工业防腐、装饰镀层及功能性薄膜的制备。其平板结构适配大面积均匀镀膜需求,常见形态为矩形或圆形薄板。
2、性能特点
基础性能:
纯度:TA1钛纯度 99.5%,杂质以Fe、O为主,适合对薄膜性能要求适中的场景。
机械性能:抗拉强度≥345 MPa,延伸率≥20%,硬度HV 120-180。
镀膜特性:
均匀性:靶面晶粒尺寸≤100 μm,膜厚均匀性±8%(需优化磁场设计)。
耐腐蚀性:在3.5% NaCl溶液中腐蚀速率≤0.01 mm/年,适合一般工业环境。
成本优势:
原材料成本低(¥400-600/kg),适配中低功率溅射(≤10 W/cm²)。
3、材质与制造工艺
材质:
基材:TA1工业纯钛(GB/T 3620.1),未进行二次提纯,保留原始杂质水平。
复合结构:部分靶材背部复合铜/钼背板(导热系数≥150 W/m·K)。
制造工艺:
原料熔炼:
真空自耗电弧熔炼(VAR):去除挥发性杂质(如Cl、S)。
塑性加工:
热轧(900-1000°C)→冷轧→退火(消除内应力)。
精密加工:
线切割成型→表面粗抛光(Ra≤1.2 μm)→酸洗(HF:HNO ₃=1:3)去除氧化层。
复合焊接:
钛-铜背板采用 真空钎焊(温度700-800°C,压力20-30 MPa)。
4、执行标准
标准类型 | 具体标准 |
国内标准 | GB/T 3620.1(TA1工业纯钛)、GB/T 3621(钛及钛合金板材) |
行业规范 | SJ/T 11609-2016(溅射靶材通用技术条件)、JB/T 8554(工业涂层性能要求) |
国际参考 | ASTM B348(钛及钛合金板材)、ISO 1463(膜厚测量标准) |
5、应用领域
工业防腐涂层:
化工设备反应釜内壁的 纯钛镀层(耐酸碱腐蚀,替代不锈钢)。
海洋平台管道的 CrTiN复合涂层(耐盐雾≥500小时)。
装饰镀膜:
卫浴五金的 氮化钛(TiN)仿金镀层(颜色稳定性优于电镀)。
家具配件的 TiC黑色涂层(防指纹、耐磨损)。
功能性薄膜:
包装材料的 氧气阻隔层(氧气透过率≤10 cm³/m²·day)。
汽车灯具反射膜的 钛基涂层(反射率≥80%)。
6、与其他钛平面靶的异同对比
特性 | TA1钛平面靶 | TA2钛平面靶 | 高纯钛平面靶(4N级) | 钛合金平面靶(Ti6Al4V) |
纯度 | 99.5%(Fe≤0.20%) | 99.5%(Fe≤0.30%) | 99.99%(Fe≤0.005%) | 90% Ti + 6% Al + 4% V |
膜层均匀性 | ±8%(需优化磁场) | ±10%(边缘效应显著) | ±5%(高纯度+精细晶粒) | ±12%(合金偏析影响) |
耐温性 | ≤400°C(氧化前) | ≤350°C | ≤800°C | ≤300°C(Al易氧化) |
成本 | 低(¥400-600/kg) | 低(¥350-550/kg) | 高(¥2000-3500/kg) | 中高(¥800-1200/kg) |
典型应用 | 防腐/装饰镀层、一般工业镀膜 | 基础工业防护 | 半导体/光学镀膜 | 轻型耐磨部件 |
7、选购方法与注意事项
选购方法
杂质检测:
要求供应商提供 OES(原子发射光谱)报告,确认Fe≤0.20%、O≤0.25%。
若用于氮化钛镀层,需额外检测C含量(≤0.10%)。
几何精度验证:
靶材厚度公差 ±0.2 mm,平面度≤0.1 mm/m(激光干涉仪检测)。
供应商评估:
选择具备稳定轧制与焊接技术的厂商,优先通过 ISO 9001 认证的企业。
注意事项
储存与预处理:
储存于干燥环境(湿度<50% RH),真空封装避免氧化。
使用前用 丙酮+超声波清洗 去除油污,禁止裸手接触靶面。
工艺优化:
TiN涂层:氮气占比 30-50%,基片温度 150-250°C,溅射功率≤8 W/cm²。
纯钛镀层:氩气纯度≥99.99%,溅射气压 0.5-0.8 Pa(减少氧掺杂)。
维护与报废:
定期检查靶材损耗(剩余厚度<**15%**时更换),避免镀膜不均。
报废靶材可回收熔炼为低端钛材,但不可用于高纯度场景。
TA1钛平面靶凭借其低成本、易加工及适中的性能,成为工业防腐与装饰镀层的经济型选择。其纯度虽不及高纯钛靶,但通过工艺优化(如磁场设计、溅射参数调整)可满足一般工业需求。选购时需重点关注杂质含量与几何精度,应用中需控制氧污染并定期维护。对于精密半导体或光学镀膜,建议选用高纯钛靶;而在防腐、装饰及包装阻隔等场景,TA1钛平面靶能实现性价比最优。