1、定义
TA1钛多弧靶是以中国国家标准 GB/T 3620.1 中的 TA1(工业纯钛) 为原材料,专为 多弧离子镀(Arc Ion Plating, AIP) 工艺设计的靶材。其通过电弧放电蒸发钛金属,产生高离化率的钛等离子体,在基材表面形成致密、高结合力的功能性薄膜(如TiN、TiAlN等)。TA1钛纯度为 99.5%(Fe≤0.20%、O≤0.25%),适用于对成本敏感且性能要求适中的工业涂层场景。
2、性能特点
电弧特性:
电弧稳定性高,靶面烧蚀均匀,避免液滴(Droplet)过多导致的薄膜缺陷。
离化率≥70%,薄膜致密度高(孔隙率≤0.5%)。
材料特性:
耐腐蚀性:在5% HCl溶液中腐蚀速率≤0.02 mm/年。
机械性能:抗拉强度≥345 MPa,硬度HV 120-180,适配高能电弧冲击。
成本优势:
原材料成本低(¥400-600/kg),靶材利用率达 80-90%(多弧靶可全表面消耗)。
3、材质与制造工艺
材质:
基材:TA1工业纯钛(GB/T 3620.1),纯度≥99.5%,杂质以Fe、O为主。
复合结构:部分靶材背部复合铜/钢背板(增强散热与机械支撑)。
制造工艺:
原料成型:
真空铸造:熔炼钛锭→浇铸成圆柱或块状坯料。
热锻(950-1000°C):细化晶粒,提升靶材致密度。
精密加工:
数控车床/铣床加工成目标形状(常见为圆柱或矩形块)。
表面喷砂处理(Ra 3-5 μm),增强电弧触发稳定性。
后处理:
酸洗(HF:HNO ₃=1:3)去除表面氧化层→超声波清洗→真空封装。
4、执行标准
标准类型 | 具体标准 |
国内标准 | GB/T 3620.1(TA1工业纯钛)、GB/T 13810(外科植入物用钛材参考) |
行业规范 | JB/T 8554(工具涂层技术条件)、HB/Z 20019(航空镀层性能要求) |
国际参考 | ASTM B348(钛及钛合金棒材)、VDI 3198(涂层结合强度与硬度测试) |
5、应用领域
工具涂层:
切削刀具的 TiN涂层(硬度2000-2200 HV,寿命提升2-3倍)。
冲压模具的 TiAlN涂层(耐温600°C,减少热疲劳裂纹)。
工业防腐:
化工阀门的 纯钛镀层(耐酸碱腐蚀,替代哈氏合金)。
海洋设备螺栓的 CrTiN复合涂层(耐盐雾≥1000小时)。
装饰镀层:
卫浴五金的 氮化钛仿金镀层(颜色均匀,成本低于PVD装饰工艺)。
智能设备外壳的 TiC黑色涂层(防指纹、抗刮擦)。
6、与其他类型钛靶的异同对比
特性 | TA1钛多弧靶 | TA1磁控溅射靶 | 高纯钛多弧靶(4N级) | 钛合金多弧靶(Ti6Al4V) |
工艺适配性 | 多弧离子镀(高离化率) | 磁控溅射(低离化率) | 多弧离子镀(低杂质干扰) | 多弧离子镀(需合金元素匹配) |
薄膜质量 | 致密但液滴较多(需后处理) | 均匀无液滴(低缺陷率) | 高纯度、低液滴 | 高硬度但易氧化(Al/V偏析) |
靶材利用率 | 80-90%(全表面消耗) | 30-50%(边缘损耗高) | 80-90% | 70-85% |
成本 | 低(¥400-600/kg) | 中(¥600-1000/kg) | 高(¥2000-4000/kg) | 中高(¥1000-1500/kg) |
典型应用 | 工具/防腐涂层、装饰镀层 | 半导体/光学镀膜 | 高端工具涂层、医疗植入镀层 | 航空耐磨部件 |
7、选购方法与注意事项
选购方法
杂质与成分检测:
要求供应商提供 OES(原子发射光谱)报告,确认Fe≤0.20%、O≤0.25%。
若用于氮化物涂层,需额外检测C、N含量(C≤0.10%,N≤0.05%)。
微观结构验证:
金相检测:晶粒尺寸≤150 μm,无铸造气孔(气孔率≤1%)。
几何适配性:
靶材尺寸需匹配多弧设备阴极(如直径Φ100-200 mm,厚度20-50 mm)。
供应商评估:
优先选择具备 真空铸造+热锻工艺 的厂商,确保靶材致密性与电弧稳定性。
注意事项
安装与使用:
安装前用 砂纸(600#)打磨靶面,去除氧化层并粗糙化表面(增强电弧触发)。
初始电弧电流建议阶梯式增加(如50 A→100 A→150 A,间隔5分钟)。
工艺优化:
TiN涂层:氮气流量占比 30-50%,基片偏压 -100至-200 V,温度 200-400°C。
纯钛镀层:氩气纯度≥99.99%,电弧电流≤150 A(避免液滴过多)。
维护与报废:
定期清理靶面残留液滴(每20小时工作后机械抛光)。
靶材厚度剩余 <10% 时需更换,报废靶材可回收熔炼为低端钛锭。
TA1钛多弧靶凭借其高利用率、低成本及适配多弧工艺的特性,成为工业工具涂层与防腐镀层的经济型选择。相较于磁控溅射靶,其薄膜更致密但需后处理液滴;相较于高纯钛靶,虽杂质较多但成本优势显著。选购时需重点关注杂质含量与晶粒均匀性,使用中需优化电弧参数与基片偏压。对于高端精密涂层(如医疗植入物),建议选用4N级高纯钛靶;而在工具强化、防腐及装饰领域,TA1钛多弧靶可实现性能与成本的最佳平衡。