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装饰镀层用钛多弧靶

材质:TA1(Grade1)

执行标准: GB/T 3620.1、GB/T 13810、JB/T 8554、HB/Z 20019、ASTM B348、VDI 3198(

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发布日期: 2022-09-18 21:19:07

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详细描述 / Detailed description

1、定义

TA1钛多弧靶是以中国国家标准 GB/T 3620.1 中的 TA1(工业纯钛) 为原材料,专为 多弧离子镀(Arc Ion Plating, AIP) 工艺设计的靶材。其通过电弧放电蒸发钛金属,产生高离化率的钛等离子体,在基材表面形成致密、高结合力的功能性薄膜(如TiN、TiAlN等)。TA1钛纯度为 99.5%(Fe≤0.20%、O≤0.25%),适用于对成本敏感且性能要求适中的工业涂层场景。

2、性能特点

电弧特性:

电弧稳定性高,靶面烧蚀均匀,避免液滴(Droplet)过多导致的薄膜缺陷。

离化率≥70%,薄膜致密度高(孔隙率≤0.5%)。

材料特性:

耐腐蚀性:在5% HCl溶液中腐蚀速率≤0.02 mm/年。

机械性能:抗拉强度≥345 MPa,硬度HV 120-180,适配高能电弧冲击。

成本优势:

原材料成本低(¥400-600/kg),靶材利用率达 80-90%(多弧靶可全表面消耗)。

3、材质与制造工艺

材质:

基材:TA1工业纯钛(GB/T 3620.1),纯度≥99.5%,杂质以Fe、O为主。

复合结构:部分靶材背部复合铜/钢背板(增强散热与机械支撑)。

制造工艺:

原料成型:

真空铸造:熔炼钛锭→浇铸成圆柱或块状坯料。

热锻(950-1000°C):细化晶粒,提升靶材致密度。

精密加工:

数控车床/铣床加工成目标形状(常见为圆柱或矩形块)。

表面喷砂处理(Ra 3-5 μm),增强电弧触发稳定性。

后处理:

酸洗(HF:HNO ₃=1:3)去除表面氧化层→超声波清洗→真空封装。

4、执行标准

标准类型具体标准
国内标准GB/T 3620.1(TA1工业纯钛)、GB/T 13810(外科植入物用钛材参考)
行业规范JB/T 8554(工具涂层技术条件)、HB/Z 20019(航空镀层性能要求)
国际参考ASTM B348(钛及钛合金棒材)、VDI 3198(涂层结合强度与硬度测试)

5、应用领域

工具涂层:

切削刀具的 TiN涂层(硬度2000-2200 HV,寿命提升2-3倍)。

冲压模具的 TiAlN涂层(耐温600°C,减少热疲劳裂纹)。

工业防腐:

化工阀门的 纯钛镀层(耐酸碱腐蚀,替代哈氏合金)。

海洋设备螺栓的 CrTiN复合涂层(耐盐雾≥1000小时)。

装饰镀层:

卫浴五金的 氮化钛仿金镀层(颜色均匀,成本低于PVD装饰工艺)。

智能设备外壳的 TiC黑色涂层(防指纹、抗刮擦)。

6、与其他类型钛靶的异同对比

特性TA1钛多弧靶TA1磁控溅射靶高纯钛多弧靶(4N级)钛合金多弧靶(Ti6Al4V)
工艺适配性多弧离子镀(高离化率)磁控溅射(低离化率)多弧离子镀(低杂质干扰)多弧离子镀(需合金元素匹配)
薄膜质量致密但液滴较多(需后处理)均匀无液滴(低缺陷率)高纯度、低液滴高硬度但易氧化(Al/V偏析)
靶材利用率80-90%(全表面消耗)30-50%(边缘损耗高)80-90%70-85%
成本低(¥400-600/kg)中(¥600-1000/kg)高(¥2000-4000/kg)中高(¥1000-1500/kg)
典型应用工具/防腐涂层、装饰镀层半导体/光学镀膜高端工具涂层、医疗植入镀层航空耐磨部件

7、选购方法与注意事项

选购方法

杂质与成分检测:

要求供应商提供 OES(原子发射光谱)报告,确认Fe≤0.20%、O≤0.25%。

若用于氮化物涂层,需额外检测C、N含量(C≤0.10%,N≤0.05%)。

微观结构验证:

金相检测:晶粒尺寸≤150 μm,无铸造气孔(气孔率≤1%)。

几何适配性:

靶材尺寸需匹配多弧设备阴极(如直径Φ100-200 mm,厚度20-50 mm)。

供应商评估:

优先选择具备 真空铸造+热锻工艺 的厂商,确保靶材致密性与电弧稳定性。

注意事项

安装与使用:

安装前用 砂纸(600#)打磨靶面,去除氧化层并粗糙化表面(增强电弧触发)。

初始电弧电流建议阶梯式增加(如50 A→100 A→150 A,间隔5分钟)。

工艺优化:

TiN涂层:氮气流量占比 30-50%,基片偏压 -100至-200 V,温度 200-400°C。

纯钛镀层:氩气纯度≥99.99%,电弧电流≤150 A(避免液滴过多)。

维护与报废:

定期清理靶面残留液滴(每20小时工作后机械抛光)。

靶材厚度剩余 <10% 时需更换,报废靶材可回收熔炼为低端钛锭。

TA1钛多弧靶凭借其高利用率、低成本及适配多弧工艺的特性,成为工业工具涂层与防腐镀层的经济型选择。相较于磁控溅射靶,其薄膜更致密但需后处理液滴;相较于高纯钛靶,虽杂质较多但成本优势显著。选购时需重点关注杂质含量与晶粒均匀性,使用中需优化电弧参数与基片偏压。对于高端精密涂层(如医疗植入物),建议选用4N级高纯钛靶;而在工具强化、防腐及装饰领域,TA1钛多弧靶可实现性能与成本的最佳平衡。

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