靶材的镀膜凯泽金属在之前的文章中简单讲过，在溅射的过程中，对靶材的质量相比于传统的材料行业来说，要求较为高些。在“靶材质量对大面积镀膜生产的三大影响” 本文中，凯泽金属为大家介绍了靶材相对密度和孔隙的影响、形状的影响以及晶粒尺寸和结晶方向的影响。
溅射钛靶材的纯度对要进行镀薄膜的性能影响比较大。当表面清洁的玻璃进入高真空镀膜腔室内，如果靶材纯度不够，在电场及磁场的作用下，靶材中的杂质颗粒在溅射过程中会附着到玻璃表面，造成部分位置的膜层不牢固出现脱膜现象。因此，靶材的纯度越高，所镀薄膜的性能越好。尹荣德在对纯度为99.9%的铜靶进行研究的过程中发现，在Cu靶制备的过程中难免会引入硫和铅元素，微量S的加入可以防止热加工过程中晶粒尺寸变大和产生微裂纹等使表面粗糙的情况发生。
但是含量添加高于18ppm时，又会出现微裂纹，随着S、Pb两种杂质元素量的增加，靶材裂纹数量及打弧放电次数均会有所增加。所以应尽可能降低靶材中的杂质含量，减少溅射薄膜污染源，提高薄膜的均匀性。
对于导热性能差的靶材，例如SiA1靶，常会由于靶材内存在杂质引起传热受阻，或者生产使用的冷却水温和实际镀膜线水温存在差异等原因造成使用过程中靶材开裂般情况下，轻微的裂纹不会对镀膜生产造成很大的影响。但当靶材出现较为明显的裂缝时，电荷非常容易在裂缝部位边缘集中，从而导致靶表异常放电。放电现象会导致出现掉渣，成膜异常，产品报废量增加。所以在制备靶材的过程中，除控制纯度外，也应该控制制备工艺条件。
对于合金靶材，常会出现材料分布不均的现象，如SiAl靶中的铝团聚，锌铝靶中铝的偏析(铝的原子质量为27小于锌的原子质量65,浇注后在冷却过程中铝会上浮，引起侧铝含量高，侧低)。由于熔点低，SiA1靶中团聚的Al在溅射成膜过程中非常容易出现掉渣，而喷涂过程中A1的加入量是定的，部分出现团聚时说明其它位置铝含量偏少，影响SiA1靶的导热和导电性，从而使溅射速率出现不致，膜层均匀性变差，靶材出现开裂，加剧靶材放电的现象，也会降低成膜质量。而靶材成分的偏析会影响溅射速率(膜层均匀性)和膜层成分。因此，除控制靶材纯度外，合金靶中材质的分布也是至关重要的。
以上就是靶材纯度和材质均匀性对大面积镀膜生产的影响，大家记住了么？在镀膜之前定要牢牢把控住对质量的把控，之后小凯泽金属还会为大家介绍其他在镀膜时，哪些因素会产生影响。还请关注宝鸡市凯泽金属材料有限公司。
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