溅射钛靶材在信息存储与集成电路领域的应用现状

溅射钛靶材主要应用于电子及信息产业，如集成电路、信息存储、液晶显示屏、激光存储器、电子控制器件等。亦可应用于玻璃镀膜领域，还可以应用于耐磨材料、高温耐蚀、高档装饰用品等行业。

信息存储产业：随着IT产业的不断发展，世界对记录介质的需求量越来越大，记录介质用靶材研究与生产成为一大热点，在信息存储产业中，使用溅射靶材制备的相关薄膜产品有硬盘、磁头、光盘等，制造这些数据存储产品，需要使用具有特殊结晶性与特殊成分的高品质靶材。常用的有钴、铬、碳、镍、铁、贵金属、稀 有金属、介质材料等。

集成电路产业：集成电路用靶材在全球靶材市场占较大份额，其溅射产品主要包括电极互连线膜、阻挡层薄膜、接触薄膜、光盘掩膜、电容器电极膜、电阻薄膜等，其中薄膜电阻器是薄膜混合集成电路中用量最多的元件，而电阻薄膜用靶材中Ni-Cr合金的用量很大。

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