大家都知道钛镍锆铬溅射靶材的规格很多，而且应用行业也很广泛，不同行业常用的靶材种类也有所不同，今天我们就随凯泽金属一道来了解溅射靶材的行业分类的相关知识吧！
一、溅射靶材的简介
1、溅射
溅射属于物理气相沉积技术的一种，它是利用离子源产生的离子，在真空中经过加速聚集，而形成高速度能的离子束流，轰击固体表面，离子和固体表面原子发生动能交换，使固体表面的原子离开固体并沉积在基底表面的过程。
2、溅射靶材
溅射靶材是在溅射过程中，高速度能的离子束流轰击的目标材料，它是沉积薄膜的原材料。
二、溅射靶材行业分类
1、半导体用靶材
（1）常用靶材：该行业常用的靶材包含钽/铜/钛/铝/金/镍/高熔点金属/铬等。
（2）用途：主要用于集成电路的关键原材料。
（3）性能要求：对于纯度、尺寸、集成度等的技术要求最高。
2、平面显示器用靶材
（1）常用靶材：该行业常用的靶材有铝/铜/钼/镍/铌/硅/铬/ITO等。
（2）用途：这里的靶材多用于电视、笔记本的各型大面积膜层。
（3）性能要求：对于纯度、大面积、均匀性等技术要求较高。
3、太阳能电池用靶材
（1）常用靶材：太阳能电池常用铝/铜/钼/铬/ITO/AZO/ZnS/Ta等靶材。
（2）用途：主要用于“窗口层”、阻挡层、电极与导电膜等场合。
（3）性能要求：技术要求高，应用范围比较广。
4、信息存储用靶材
（1）常用靶材：信息存储常用钴/镍/铁合金/铬/碲/硒/稀土-迁移金属等。
（2）用途：这里的靶材主要用于光驱与光盘的磁头、中间层、底层。
（3）性能要求：对于高储存密度、高传输速度的要求较高。
5、工具改性用靶材
（1）常用靶材：工具改性常用钛/锆/格/铬铝合金等靶材。
（2）用途：通常做表面强化用。
（3）性能要求：性能要求较高，使用寿命长。
6、电子器件用靶材
（1）常用靶材：电子器件常用铝合金/硅化物靶材。
（2）用途：一般用于薄膜电阻与电容。
（3）性能要求：尺寸小、稳定性、电阻温度系数小。
7、其他
（1）常用靶材：其他常用靶材包含氧化物/石英/硅/钛/钽等。
（2）用途：主要用于装饰镀膜与玻璃镀膜。
（3）性能要求：这种靶材对于技术要求一般。
以上是溅射靶材介绍及行业分类的全部内容，经以上介绍可知靶材的种类多样，不同材质的靶材所适合的行业都有所不同，而且对于性能要求方面也是不同的。宝鸡市凯泽金属材料有限公司生产的靶材规格多样、质量有保证、适用范围广，如果有需要，欢迎大家随时致电或留言进行咨询。
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