TA2钛靶块

钛靶板（平面靶）凭借其大面积成膜能力与高纯度特性，成为半导体、光学及工业涂层领域的核心材料。相较于钛管靶，其边缘损耗较高但兼容性更广；与钛合金靶相比，纯度更高但需依赖复合背板提升散热效率。选购时需严格把控纯度、微观结构及供应商工艺能力，使用中需优化溅射参数与维护流程，以平衡镀膜质量与成本效益... 【详情】

TA1钛多弧靶凭借其高利用率、低成本及适配多弧工艺的特性，成为工业工具涂层与防腐镀层的经济型选择。相较于磁控溅射靶，其薄膜更致密但需后处理液滴；相较于高纯钛靶，虽杂质较多但成本优势显著。选购时需重点关注杂质含量与晶粒均匀性，使用中需优化电弧参数与基片偏压。对于高端精密涂层... 【详情】

TA1钛平面靶凭借其低成本、易加工及适中的性能，成为工业防腐与装饰镀层的经济型选择。其纯度虽不及高纯钛靶，但通过工艺优化（如磁场设计、溅射参数调整）可满足一般工业需求。选购时需重点关注杂质含量与几何精度，应用中需控制氧污染并定期维护。对于精密半导体或光学镀膜，建议选用高纯钛靶；而在防腐、装饰... 【详情】

异形钛靶材通过定制化设计解决了复杂结构镀膜的行业痛点，尽管初期成本与周期较高，但其在材料利用率、镀膜精度上的优势显著。选购时需紧密协同设计与工艺团队，优先选择具备增材制造与精密加工能力的供应商，并通过小批量试制验证可行性。在半导体3D集成、航空航天高温涂层等前沿领域... 【详情】

产品名称：钛板靶、钛平面靶、钛靶板品名：钛合金靶板牌号：TC4 产地：宝鸡 主要型式：圆靶/板靶/管靶牌号：TA1，TA2，TC4 圆靶：60/65/70/80/85/90/95/100(D)×20/30/32/35/40/4... 【详情】

产品名称：钛靶材、钛多弧靶, 钛靶块，钛块牌号：TA0，TA1，TA2，GR1，GR2执行标准：GB/T2695-1996，ASTM B348-97用途：用于半导体分离器件、平面显示器、储存器电极薄膜、溅射镀膜、工件表面涂... 【详情】