新能源用钛靶材是用于薄膜沉积的高纯度钛或钛合金材料（纯度≥99.99%‌），遵循半导体级制造标准‌，主要应用于太阳能电池透明导电层‌、储能设备电极‌及显示技术光电转换膜‌等领域。... 【详情】

光学级钛靶材是高端镀膜的核心材料，其性能直接影响光学系统的能量损耗（每0.1%杂质增加约2%的散射损失）。在半导体和显示领域靶材趋向大尺寸化（如G10.5代线需4m长靶）的背景下，光学靶材更聚焦于微观结构控制，需结合XRD（X射线衍射）进行择优取向分析，确保（002）晶面占比＞70%，以实现最优膜层生长... 【详情】

钛管靶凭借其高材料利用率和均匀镀膜特性，在显示面板（如G10.5代线需Φ450×2500mm靶管）和光伏领域占据主导地位。相比钛板靶，其采购成本高约30%，但综合镀膜效率提升50%以上。特殊应用（如EUV镀膜）需选择单晶钛管靶（晶向偏差<1°），并配合... 【详情】

钛靶材因其优异的综合性能（性价比、成膜质量、工艺适应性），占据真空镀膜靶材市场约35%的份额（2023年数据）。相较于钽、铌等稀有金属靶材，钛靶的溅射速率快20-50%，且成本仅为1/3-1/5。在精密光学镀膜中，需选用EBM工艺制备的（002）择优取向靶材，配合离子束辅助沉积（IBAD），可将膜层表面粗糙度控制在0.5 nm以下，满足激光陀螺仪等超精密器件的需求。... 【详情】

钛靶管凭借高材料利用率与镀膜均匀性，在显示面板（如8K OLED）和光伏领域占据主导地位。相较于镍靶管，其成本高3-4倍，但耐高温性优异（Ti熔点比Ni高213℃），适用于硬质涂层；对比锆靶管，钛靶管的溅射速率快20%，且成本仅为1/3。在采购时需重点关注 晶粒取向控制 与 杂质元素溯源... 【详情】

圆柱钛靶材凭借其高致密性与工艺适应性，在半导体（如5 nm节点TiN阻挡层）和超精密光学领域不可替代。相较于钛管靶，其材料利用率低约20%，但更适合小尺寸高精度镀膜（如Φ200 mm晶圆）；对比镍靶块，钛靶的耐高温性（熔点高213℃）和膜层硬度（TiN硬度达2000 HV）优势显著。在高端应用中，需选择HIP工艺制备的纳米晶靶材... 【详情】

装饰用高纯钛靶凭借其优异的成膜质量和环保特性，成为高端表面处理的首选。选购时需严格把控纯度与供应商技术实力，并注意工艺参数适配性。与镍、锆等靶材相比，钛靶在装饰领域的色彩表现和耐久性更具优势，但成本较高，需根据具体需求权衡选择... 【详情】

平面显示用钛靶是高端显示面板制造的核心材料，其超纯、高密度和微观均匀性要求远高于装饰用钛靶。选购时需重点关注杂质控制、晶粒细化工艺及供应商的行业经验。相较于钛管靶和靶块，钛板靶在大面积镀膜中更具优势但成本较高，需根据设备类型和工艺需求灵活选择。使用中需严格遵循低氧操作规范... 【详情】

高纯钛靶以其超低杂质含量和优异成膜性能，成为高端制造领域的核心材料。与钛合金靶相比，其纯度更高但硬度较低；与纯锆靶相比，成本更低但耐高温性稍逊；与纯镍靶相比，耐腐蚀性更优但导电性不足。选购时需严格把控纯度与微观结构，并结合应用场景优化溅射工艺，以最大化靶材利用率与薄膜性能... 【详情】

镀膜用钛管靶凭借其高利用率、优异膜厚均匀性和旋转溅射适应性，成为大面积连续镀膜的核心材料。相较于钛板靶和靶块，钛管靶在量产效率和成本控制上更具优势，但对加工精度（如焊接密封性、几何公差）要求严苛。选购时需重点把控纯度、微观结构及供应商的工艺能力，使用中需优化溅射参数与维护流程，以延长靶材寿命并保障镀膜质量... 【详情】

工业涂层用钛圆柱靶凭借其高纯度、优异热管理能力和适配多种复合涂层的灵活性，成为机械强化领域的核心材料。相较于纯铬靶，其耐磨性更优；相较于碳化钨靶，成本显著降低且工艺兼容性更广。选购时需根据具体涂层类型（如TiN、TiAlN）选择靶材纯度与复合结构，并严格验证微观均匀性。使用中需优化溅射气体比例与基片温度... 【详情】

TA2高纯钛靶通过提纯工艺在保留工业纯钛成本优势的同时，提升了纯度与溅射性能，成为中端工业涂层的理想选择。其性价比显著高于4N5级高纯钛靶，但薄膜性能（如电阻率、耐高温性）略逊于后者。选购时需重点把控Fe、O杂质含量及晶粒均匀性，应用中需优化溅射气体比例与基片温度。对于要求严苛的半导体或光学镀膜，仍需选用4N5级以上靶材；而在工具强化、通用防腐领域... 【详情】

TA1高纯钛靶管通过提纯工艺在保留工业纯钛成本优势的同时，显著提升了杂质控制水平与溅射效率，成为中端镀膜市场的理想选择。其性价比优于4N5级靶管，且比TA2靶管更适合要求较高的耐磨与光学应用。选购时需严格把控纯度、几何精度及供应商的工艺成熟度，使用中需优化溅射参数并定期维护... 【详情】

钛靶板（平面靶）凭借其大面积成膜能力与高纯度特性，成为半导体、光学及工业涂层领域的核心材料。相较于钛管靶，其边缘损耗较高但兼容性更广；与钛合金靶相比，纯度更高但需依赖复合背板提升散热效率。选购时需严格把控纯度、微观结构及供应商工艺能力，使用中需优化溅射参数与维护流程，以平衡镀膜质量与成本效益... 【详情】

TA1钛圆柱靶通过提纯工艺在保留工业纯钛成本优势的同时，显著提升了纯度与溅射性能，成为中端工业涂层的理想选择。其性价比优于4N5级高纯钛靶，且比TA2钛靶更适合要求较高的耐磨与防腐应用。选购时需严格把控Fe、O杂质含量及晶粒均匀性，应用中需优化溅射气体比例与基片温度。对于高精密半导体或光学镀膜... 【详情】

TA1钛靶管凭借其低成本、易加工和良好的耐腐蚀性，成为工业防腐与装饰镀层的经济型选择。相较于高纯钛靶管，其薄膜均匀性和耐温性稍逊，但成本优势显著；与TA2钛靶管相比，杂质控制更优，适合对镀层质量要求稍高的场景。选购时需重点关注Fe、O杂质含量及几何精度，应用中需控制溅射参数以避免膜层缺陷... 【详情】

TA1钛多弧靶凭借其高利用率、低成本及适配多弧工艺的特性，成为工业工具涂层与防腐镀层的经济型选择。相较于磁控溅射靶，其薄膜更致密但需后处理液滴；相较于高纯钛靶，虽杂质较多但成本优势显著。选购时需重点关注杂质含量与晶粒均匀性，使用中需优化电弧参数与基片偏压。对于高端精密涂层... 【详情】

TA1钛平面靶凭借其低成本、易加工及适中的性能，成为工业防腐与装饰镀层的经济型选择。其纯度虽不及高纯钛靶，但通过工艺优化（如磁场设计、溅射参数调整）可满足一般工业需求。选购时需重点关注杂质含量与几何精度，应用中需控制氧污染并定期维护。对于精密半导体或光学镀膜，建议选用高纯钛靶；而在防腐、装饰... 【详情】

异形钛靶材通过定制化设计解决了复杂结构镀膜的行业痛点，尽管初期成本与周期较高，但其在材料利用率、镀膜精度上的优势显著。选购时需紧密协同设计与工艺团队，优先选择具备增材制造与精密加工能力的供应商，并通过小批量试制验证可行性。在半导体3D集成、航空航天高温涂层等前沿领域... 【详情】

高纯钛靶指纯度≥ 99.95%（3N5级） 的钛溅射靶材，杂质总量≤ 500 ppm，关键元素（Fe、O、C等）需精确控制。根据应用需求，纯度可提升至 99.999%（5N级），主要用于对薄膜性能要求严苛的半导体、光学及新能源领域... 【详情】

新能源用钛靶材是高性能薄膜制备的核心材料，需根据具体应用场景（如耐腐蚀、导电性、轻量化）选择材质与规格。采购时需综合考量纯度、供应商资质及成本效益，并在使用中严格控制工艺参数与维护条件，以确保薄膜性能与设备寿命
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固态电池用钛靶材是一种通过物理气相沉积（PVD）技术（如磁控溅射）制备超薄钛金属层的高纯度材料，主要用于固态电解质与电极界面层，通过抑制锂枝晶生长、提升离子传输效率和界面稳定性，解决固态电池循环寿命短的核心痛点... 【详情】

清洁建筑玻璃用钛靶材是通过磁控溅射或反应溅射工艺，在玻璃表面沉积二氧化钛（TiO₂）或氮掺杂TiO₂薄膜的功能性材料。其核心作用在于赋予玻璃自清洁、光催化分解污染物、抗反射及抗菌等特性，通过光催化反应分解表面有机物污染物，减少人工清洁频率，提升建筑环保性与美观性... 【详情】

集成电路（IC）用钛靶材是通过物理气相沉积（PVD）工艺（如磁控溅射、离子镀）在硅基芯片表面沉积钛薄膜的高纯度材料，主要用于导电粘附层、扩散阻挡层及接触孔填充。其核心作用... 【详情】

产品名称：钛板靶、钛平面靶、钛靶板品名：钛合金靶板牌号：TC4 产地：宝鸡 主要型式：圆靶/板靶/管靶牌号：TA1，TA2，TC4 圆靶：60/65/70/80/85/90/95/100(D)×20/30/32/35/40/4... 【详情】

产品名称：钛靶材、钛多弧靶, 钛靶块，钛块牌号：TA0，TA1，TA2，GR1，GR2执行标准：GB/T2695-1996，ASTM B348-97用途：用于半导体分离器件、平面显示器、储存器电极薄膜、溅射镀膜、工件表面涂... 【详情】

产品名称：钛靶材，钛旋转靶，钛靶管牌号：TA0，TA1，TA2/GR1，GR2执行标准：GB/T2695-1996，ASTM B348-97用途：用于半导体分离器件、平面显示器、储存器电极薄膜、溅射镀膜、工件表面涂层，玻璃... 【详情】

产品名称：钛靶材、钛板靶、钛靶板牌号：TA0，TA1，TA2，GR1，GR2执行标准：GB/T2695-1996，ASTM B348-97用途：用于半导体分离器件、平面显示器、储存器电极薄膜、溅射镀膜、工件表面涂层，玻璃... 【详情】

产品名称：钛靶材牌号：TA0， TA1， TA2， TC4， TC6， TC11， GR5， TA7 厂家：凯泽金属主要形式：圆靶、板靶、管靶钛含量≥：99.8(%)杂质含量：0.02(%)重量：不等(KG/块)密度：4.51或4.50圆靶：60/65/70/8... 【详情】

产品名称：钛靶块执行标准： GB/T2695-1996，ASTM B348-97产 地：陕西宝鸡材 质：Ti纯 度：99.9%-99.99%晶 粒 度：<100um规格：可以按照用户需要定制应用领域：适用电子、五金、钟表、眼镜、... 【详情】

产品名称：钛靶材、钛多弧靶, 钛靶块，钛块牌号：TA0，TA1，TA2，GR1，GR2执行标准：GB/T2695-1996，ASTM B348-97用途：用于半导体分离器件、平面显示器、储存器电极薄膜、溅射镀膜、工件表面涂... 【详情】

产品名称：TA0钛靶执行标准： GB/T2695-1996，ASTM B348-97产 地：陕西宝鸡材 质：Ti纯 度：99.9%-99.99%晶 粒 度：<100um规格：可以按照用户需要定制应用领域：适用电子、五金、钟表、眼镜、... 【详情】

产品名称：TA1钛靶执行标准： GB/T2695-1996，ASTM B348-97产 地：陕西宝鸡材 质：Ti纯 度：99.9%-99.99%晶 粒 度：<100um规格：可以按照用户需要定制应用领域：适用电子、五金、钟表、眼镜、... 【详情】

产品名称：TA0钛靶产 地：陕西宝鸡材 质：Ti纯 度：99.9%-99.99%晶 粒 度：<100um规格：可以按照用户需要定制应用领域：适用电子、五金、钟表、眼镜、首饰、刀具、模具、玩具、厨具、器皿... 【详情】

名称：钛靶材、钛多弧靶, 钛平面靶，钛旋转靶牌号：TA0，TA1，TA2，GR1，GR2执行标准：GB/T2695-1996，ASTM B348-97用途：用于半导体分离器件、平面显示器、储存器电极薄膜、溅射镀膜、工件表面... 【详情】

产品名称：钛靶材、钛多弧靶, 钛靶块，钛块牌号：TA0，TA1，TA2，GR1，GR2执行标准：GB/T2695-1996，ASTM B348-97用途：用于半导体分离器件、平面显示器、储存器电极薄膜、溅射镀膜、工件表面涂... 【详情】